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使用标准气体高压净化器及其技术的特点是净化水平高、耐高压、使用方便、投资少，同时该技术可以推广应用于超纯气体的生产制造，随着我国半导体、光电技术的飞速发展，此类技术将有广泛的市场空间。下面针对几种典型的气体终端净化进行简要的介绍。
标准气体采用高效的脱氧催化剂，利用脱氧催化剂的氧化还原特点，脱除N2中的痕量O2，脱氧在室温下进行，催化剂失活后通氢还原，还原温度为350-450℃，其特点是有一定的水蒸汽排出。然后用大量的N2吹洗或抽空与通氮相结合的方式将H2吹净。
经过高压脱氧器脱氧，产品瓶的氧含量可小于0.3PPM(V/V)，该净化器的特点：耐高压，非常适于气体的配制；脱氧效果明显，脱氧容量大，催化剂使用寿命长，我们实验室所用的高氮净化器，已用5年，效果依然良好。
标准气体净化器内充装两种耐低温的多孔吸附剂，经过良好的换热设计，在低温条件下吸附，可有效将H2、He中杂质除去，其纯度可达99.9999%，由于条件十分的苛刻，操作者需要经过严格的培训指导，否则极易发生安全事故。采用此法净化H2的技术，也可以推广为规模化H2净化装置，该低温法是高纯H2生产的重要方法，因为该方法可有效除去H2中的N2、CO、CH4等
